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An elementary model for control of a semiconductor etching process Publikation auswählen
A. Madhukar, T. Parent, I.G. Rosen, C. Wang

SIAM Review 44 (4), 2002, pp. 678-695

Editors  Margaret H. Wright
Publisher:  Society for Industrial and Applied Mathematics
Address:  Philadelphia, PA
 
Keywords:   semiconductor etching, mathematical modeling, spectroscopic ellipsometry, control
 
URL:   http://dx.doi.org/10.1137/S0036144500382295